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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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閱讀：118 發布時間：2020/07/31
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起，所以通過干涉條紋的移動變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量，從而測得與此有關的其他物理量。測量精度決定于測量光程差的精度，干涉條紋每移動一個條紋間距，光程差就改變一個波長(～10-7米)，所以干涉儀是以光波波長為單位測量光程差的，其測量精度之高是任何其他測量方法所*的。
1 、非接觸式測量：避免物件受損。
2 、三維表面測量：表面高度測量范圍為12nm - 120μm。
3 、多重視野鏡片：方便物鏡的快速切換。
4 、納米級分辨率：垂直分辨率可以達0.1nm。
5、高速數字信號處理器：實現測量僅需幾秒鐘。
6 、掃描儀：閉環控制系統。
7、工作臺：氣動裝置、抗震、抗壓。
8 、測量軟件：基于windows 操作系統的用戶界面，強大而快速的運算
FR-Basic UV/VIS | 200nm - 850nm | 1nm - 80μm |
FR-Basic VIS/NIR | 350nm – 1000nm | 12nm - 120μm |
FR-Basic RED/NIR | 700nm – 950nm | 200nm - 250μm |
FR-Basic UV/NIR-HR | 200nm - 1100nm | 1nm - 120μm |
FR-Basic UV/NIR-EXT | 200nm - 1000nm | 3nm - 80μm |
FR-Basic NIR | 900nm - 1700nm | 100nm - 200μm |
FR-Basic D VIS/NIR FR-Basic D UV/NIR | 350nm – 1700nm 200nm – 1700nm | 12nm – 300μm 1nm – 300μm |
